Процесс, используемый для применения полупроводниковых фотоэлектрических материалов к подложке процессом осаждения физическая пара, где высокоэнергетических ионов используются бомбардировать элементарного источников полупроводникового материала, которые выкинуть паров атомов, которые затем на хранение в тонких слоях на подложке.